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Target di sputtering

Target ad alta purezza in Cu, Al e Ag con dati di qualità GDMS e UT.

PropertySpecification
MaterialCu, Al, Ag, Ti, Ta, W
Purity99.99% – 99.9999% (4N–6N)
DimensionsCustom (up to Ø550mm)
Density≥99.5% theoretical
GDMS AvailableYes — full trace analysis

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